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仪器设备名称:
X-射线光电子能谱仪(XPS)
图片:
仪器型号:
AXIS SUPRA
仪器厂商(国别):
岛津(Shimadzu)(日本)
仪器原值:
400万元
购置日期:
2018.06.01
仪器主要配套:
单色化Al/Ag的X射线阳极;UPS紫外光电子能谱;GCIS离子枪单Ar和团簇模式的刻蚀;
机组所在部门
联系电话:
前沿交叉科学研究院
0531-82767046
仪器位置及现状:
九教(水利与环境学院)104室 正常
开放机时安排:
提前预约
主要技术指标:
1.单色化X光源,最大功率600W;
Al单色XPS指标(Ag 3d5/2峰,半高全宽@灵敏度)
最佳能量分辨和灵敏度:0.45eV@160kcps;
大束斑:0.48eV@600kcps,0.6eV@2.0Mcps;
较大束斑(Φ110μm):0.48eV@100kcps、0.6eV@400kcps;
中等束斑(Φ55μm):0.48eV@25kcps、0.6eV@125kcps;
最小束斑(Φ15μm):0.48eV@1.5kcps、0.6eV@6kcps;
能量分辨优于0.90eV时,灵敏度优于6kcps;
平行成像XPS空间分辨(锐利刀口样品,线扫描强度80%~20%的宽度)空间分辨率优于1μm。
绝缘体分析(PET,O-C=O的C 1s峰半高全宽@C-C/C-H的C 1s峰强度):0.68eV@35kcps、0.77eV@100kcps;
2.紫外光电子能谱(UPS)
能量分辨和灵敏度:Ag费米边20%~80%≤120meV时Ag 4d计数率≥1Mcps;
应用范围/服务内容:
用于研究催化剂表面的元素成分及其所处的状态,对吸附和脱附的机理进行表征;在电子工业中半导体薄膜层、集成电路各种表面层的制备和应用、金属材料的表面处理、材料表面的涂层或镀层、催化剂的选择和处理、有机物的老化机理以及材料表面吸附层等方面都有广泛的应用。
服务技术领域:
无机材料、有机材料、生物材料等
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