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大型仪器设备——X-射线光电子能谱仪

作者: UJN_IAIR   信息来源:前沿交叉科学研究院    发布时间: 2019-09-02

仪器设备名称:

X-射线光电子能谱仪(XPS)

图片:

 

仪器型号:

AXIS SUPRA

仪器厂商(国别):

岛津(Shimadzu)(日本)

仪器原值:

400万元

购置日期:

2018.06.01

仪器主要配套:

单色化Al/AgX射线阳极;UPS紫外光电子能谱;GCIS离子枪单Ar和团簇模式的刻蚀;

机组所在部门

联系电话:

前沿交叉科学研究院

0531-82767046

仪器位置及现状:

九教(水利与环境学院)104 正常

开放机时安排:

提前预约

主要技术指标:

1.单色化X光源,最大功率600W

Al单色XPS指标(Ag   3d5/2峰,半高全宽@灵敏度)

最佳能量分辨和灵敏度:0.45eV@160kcps

大束斑:0.48eV@600kcps0.6eV@2.0Mcps

较大束斑(Φ110μm):0.48eV@100kcps0.6eV@400kcps

中等束斑(Φ55μm):0.48eV@25kcps0.6eV@125kcps

最小束斑(Φ15μm):0.48eV@1.5kcps0.6eV@6kcps

能量分辨优于0.90eV时,灵敏度优于6kcps

平行成像XPS空间分辨(锐利刀口样品,线扫描强度80%20%的宽度)空间分辨率优于1μm

绝缘体分析(PETO-C=OC 1s峰半高全宽@C-C/C-HC 1s峰强度):0.68eV@35kcps0.77eV@100kcps

2.紫外光电子能谱(UPS

能量分辨和灵敏度:Ag费米边20%80%≤120meVAg   4d计数率≥1Mcps

应用范围/服务内容:

用于研究催化剂表面的元素成分及其所处的状态,对吸附和脱附的机理进行表征;在电子工业中半导体薄膜层、集成电路各种表面层的制备和应用、金属材料的表面处理、材料表面的涂层或镀层、催化剂的选择和处理、有机物的老化机理以及材料表面吸附层等方面都有广泛的应用。  

服务技术领域:

无机材料、有机材料、生物材料等

 

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