仪器型号:

Nexdep

仪器厂商（国别）:

加拿大 Angstrom Engineering Inc.

仪器原值:

97.397万元

购置日期:

2017.9

仪器主要附件:

腔室内带有4个金属热蒸发源，2个电源，电源功率为2.5kw；

系统带有电脑控制的 Aeres镀膜控制系统，带有2个晶振探头，传感器固定在刚性的支架上，并带有水冷系统以提高读数的准确性

机组所在部门

联系电话:

前沿交叉科学研究院

0531-82767046

仪器现状:

正常

开放机时安排:

提前预约

主要技术指标:

5.1系统安装有4个热阻蒸发源；

     *5.2蒸发速率自动控制和手动控制同时具备，控制精度：0.01   Å/s；薄膜误差小于5%。

*5.3可以实现1个热阻和1个热阻间的共蒸

   *5.4   RADAK的温控范围不小于0-1500   ^oC，能实现自动温度控制蒸镀功能；

5.5蒸发源与样品台的距离在300 -400 mm之间；

5.6蒸发源之间有隔离装置，要有效防止交叉污染；

5.7安装有4个独立的气动蒸发源挡板；

5.8安装有1个气动样品台挡板；

应用范围/服务内容:

半导体器件的加工与性能测试，金属电极的制备

服务技术领域:

纳米材料，微纳器件 FET器件的制备